International EUV Resist Symposium

■日程

平成22年11月17日（水），18日（木）
　　11月17日　10時～17時：国際シンポジウム，17時～19時：懇親会
　　11月18日　9時～17時：国際シンポジウム

■場所

〒530-0005　大阪市北区中之島4-3-53　大阪大学中之島センター　10F 佐治敬三メモリアルホール

■主催・共催

主催
　JST/CREST

協賛
　大阪大学産業科学研究所
　応用物理学会
　次世代リソグラフィ技術研究会
　International Microprocesses and Nanotechnology Conference
　フォトポリマー懇話会
　リソグラフィ技術懇話会

■会費

シンポジウム参加費無料，懇親会費3,000円

■お申込み方法

下記詳細からダウンロードした参加申込書にご記入の上，下記申し込み先のe-mailアドレスまで ご送付下さい。

■お申し込み，お問い合わせ先

大阪大学　産業科学研究所　ビーム応用フロンティア研究分野（田川研）
担当　遠藤政孝
e-mail：endo-m＠sanken.osaka-u.ac.jp（＠マークを小文字にしてください）
HP：http://imnc.jp/ 内のLinkに掲載

■詳細

http://imnc.jp/EUV_resist_symposium.doc　（Wordファイルダウンロード）

最終更新日： 2010年11月12日